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國立中央大學

將試片置於110℃的熱平台上烘烤2 分鐘，將試片上殘存的水氣完全 ... 曝光後為使圖案顯現，利用顯影液MF-319 浸泡約30 秒，將與紫外. 光產生作用的光阻及底下的LOR 去除 ...

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