實驗步驟. 清洗wafer. Wafer. Pre-bake. 塗佈光阻. 軟烤. Mask Aligner. 曝光 ... 軟烤:以電熱板90℃,烘烤90 秒. 溫. 度. 設. 定. 圖1 電熱烤板. 1.2.4. 曝光.
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