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HMDS去水烘烤與塗底示意圖旋轉塗佈光阻

分成正光阻與負光阻兩種，正光阻會因光能反應斷鍵成小分子，斷鍵後的光阻在顯影液中變成可溶解且柔軟的，故可被顯影液去除，而未曝光的光阻則不會被去除，因此顯影後圖像與 ...

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