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光阻烘烤製程的不均勻性對CD之影響 - 9lib TW

(critical dimension, CD)的影響和曝光一樣的重要,此外,烘烤步驟中光阻的溫度均勻 ... 因此曝光前烘烤(pre bake, PB)及曝光後烘烤(post exposure bake, PEB)的接觸問題 ...

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