你即將離開本站

並前往https://www.appliedmaterials.com/zh-hant/products/applied-sigmameltec-sfb-mask-bake-series

Applied® Sigmameltec® SFB Mask Bake Series

使用化學放大型光阻進行光罩製造時，必須對曝光後烘烤(PEB) 步驟進行嚴格控制，這樣便可完成由圖案曝光引發的化學反應。烘烤溫度和時間也會影響最終的圖案尺寸，因此烘 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「曝光後烘烤」的人也找了：

  1. 曝後烤駐波效應
    2.
  2. 曝後烤目的
    3.
  3. 曝光顯影製程
    4.
  4. 曝光顯影蝕刻
    5.
  5. 曝光機原理
    6.
  6. 浸潤式曝光原理
    7.
  7. 微影製程步驟
    8.
  8. 曝光機種類
    9.