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曝光後烘烤
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國立中興大學-光電半導體製程中心
軟烤:或稱曝光前烘烤,主要用來將光阻殘留溶劑去除,增加光阻對晶片之附著力。 ... 曝光:曝光之目的在使晶片表面所覆光阻吸收適當能量以進行光化轉換,如此顯影後光 ...
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「曝光後烘烤」
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曝後烤駐波效應
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