曝光區會在顯影劑裏溶解,而未曝光的光阻則留在晶圓表面,這相當於複製了光罩/倍縮光罩的暗區圖案。 Ref: Hong Xiao, 半導體製程技術導論(修訂二版), 全華圖書8. 6-1 6- ...
確定! 回上一頁