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奈米世代微影技術之原理及應用 - CTIMES

直到半導製程進步到0.25(m，其對應的曝光波長為248 nm準分子雷射光源；此一世代光學波長小於圖案線寬的條件不再，光學微影便出現了第一次的瓶頸，而進入了193 nm曝光波長。

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