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微影製程缺陷
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https://books.google.com.tw/books?id=1jH6DwAAQBAJ&pg=PA39&lpg=PA39&dq=%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E7%BC%BA%E9%99%B7&source=bl&ots=dKk_3VK8Cf&sig=ACfU3U1vI68biIcssfzuFDTClF19exk1qw&hl=zh-TW&sa=X&ved=2ahUKEwjg_KnH5f_0AhVuhosKHXKIA10Q6AF6BQioAhAD
新電子 09月號/2020 第414期 - 第 39 頁 - Google 圖書結果
EUV微影將EUV光刻技術和相關的較小設計節點整合到IC生產中,需要對新的光刻機、新 ... 更高的EUVL分辨率意謂著光罩毛坯和圖案沒有更小的缺陷,並且光罩圖案需要精確到更 ...
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「微影製程缺陷」
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