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微影製程缺陷
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KLA全新缺陷檢測與檢視產品搶進先進製程商機 - 蘋果日報
半導體檢測設備大廠科磊(KLA)今日發布392x和295x光學缺陷檢測系統 ... 該系統能夠對脆弱的EUV微影製程層進行檢視,與KLA檢測機的獨特連接縮短了取得 ...
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