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CN1217399C - 检测晶片阶段缺陷的方法- Google Patents

对于一特定特征尺寸而言，相位移光罩可增加景深与制程容许范围。 应用相位移微影制程时，是以光线的干涉来增加投射至目标的图像深度与解析度。曝光光线于目标处的相位被 ...

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