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為加速電子束(E-BEAM)技術的設計發展及採用

藉由有效地利用電子束直描(EbDW)方法，電子束導向設計. (DFEB)可降低光罩成本同時還可透過縮短微影製程技術導向設計. (design-to-lithography)的製程流程達到加速產品快速 ...

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