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半導體微影製程急先鋒陳正方博士從矽谷闖天下

當時資訊科技業界仍受限於未能突破0.5微米的製程開發，必須要能突破由汞燈照明之紫外線（UV）光源波長限制，或是延伸傳統光罩效能。美日業界競爭開發由日本廠商領先的光罩 ...

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