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半導體黃光製程有害物暴露及異味調查研究Exposure ...

光阻稀釋劑(EBR)，主要成分為單甲基醚丙二醇醋酸酯(PGMEA)與單甲基醚丙. 二醇(PGME)；光阻液所含有主要溶劑成分為乳酸乙酯(Ethyl lactate)、乙酸丁酯. (Butyl acetate)與二 ...

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