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#1Ch 6: Lithography
顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光阻. 基片. 光阻. 微影製程(Lithography). 基片(Substrate). 基片. 光阻. (PR, Photoresist). 光阻塗佈. Coating.
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#2晶圓的處理- 微影成像與蝕刻
塗敷光阻劑. 溶解度會隨曝光程度改變. 曝光. 改變光阻劑溶解度. 顯影. 去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外膜. 剝除光阻劑. 擴散等表面處理 ...
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#3半導體曝光英文 - 工商筆記本
半導體 曝光英文. Lithography. 曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光阻. 基片 ...
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#4急....... 請問半導體化學品的相關專有名詞.......- MyAV視聽商情網
請問各位網兄一些半導體化學品的相關專有名詞的英文翻譯- 顯像液- 研磨液. ... 蝕刻----->etch 蝕刻液--->etchant 顯影劑--->developer 薄膜形成 ...
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#66 Photolithography
列出組成光阻(photoresist)的四個成分. •敘述正光阻(+PR)和負光阻(−PR)的差異. •敘述微影製程(photolithography)的順序. •列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) ...
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#7photoresist - 光阻劑 - 國家教育研究院雙語詞彙
出處/學術領域, 英文詞彙, 中文詞彙. 學術名詞 化學名詞-高中以下化學名詞, photoresist, 光阻劑. 學術名詞 材料科學名詞, photoresist, 光阻;感光抗膜. 學術名詞
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#8國立中興大學-光電半導體製程中心
英文 名稱. OAI-500. 儀器經費來源. 購入日期. 2002-12-31. 儀器位置 ... 曝光:曝光之目的在使晶片表面所覆光阻吸收適當能量以進行光化轉換,如此顯影後光阻才能成功且 ...
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#9發展下一世代環保微影光罩結構材料
英文 摘要. Development of green material for mask of next generation lithography ... 晶圓上之光阻的特定位置(一般稱為Die)上,因此光罩製作成為半導體製.
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#10黃光微影製程技術
和溶劑(solvent)依遇光特性可分成正光阻和負光阻. -正光阻的特性: 照光之後可溶於顯影劑用於高解析度的製程. -負光阻的特性: 照光之後不溶於顯影劑適用於3µm以上的製程 ...
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#11微影照像
2. 上光阻,旋轉使其均勻,並控制光阻厚度,烘烤除去光阻中的殘餘溶劑,此. 步驟稱為軟烘烤(soft bake)。 3. 曝光(exposure)用光罩對準儀(mask aligner)或步進照像機 ...
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#12黃光微影(Photolithography) | Ansforce
顯影 液. 蝕刻液. 去光阻液. 光阻. PR. Photo Resistor. 正光阻. 負光阻. 黃光區. 知識力 改變知識分享與社群關係 的未來發展.
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#13光阻半導體英文 - Stroyka
1 min read. 光阻半導體英文. 光阻劑(Photoresist)是一種光敏感材料,由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成,根據曝光顯影後的變化,分為正型(Positive type)光阻劑和 ...
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#14半導體微影奈米尺寸的穩定性控制__臺灣博碩士論文知識加值系統
如果要取得更小的線寬則必須使用解析度(resolution)較佳的光阻與波長較短的光源.但是高曝光能量卻能使得光阻底部吸收到更多的反射能量而使得白邊變小。但是如果曝光能量太 ...
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#15黃光製程英文 - 藥師家
所以業界所謂的黃光工程師, 就是負責光微影製程的人員。 ,蝕刻與光. 阻剝除. 4. 光罩/倍縮光罩. (Mask). 曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片.
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#16光阻劑英文- 英語翻譯 - 查查綫上辭典
光阻劑英文翻譯: duv…,點擊查查綫上辭典詳細解釋光阻劑英文發音,英文單字,怎麽用英語翻譯光阻劑,光阻劑的英語例句用法和解釋。
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#17乾膜光阻去除 - 弘塑科技股份有限公司
乾膜光阻去除. 完成凸塊電鍍(Bump Electroplating)後,必須將基板表面上之光阻去除(PR Stripping),微電子構裝所使用光阻層厚度,一般比前段IC製造之光阻層厚,電子構 ...
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#18黃光製程> 顯影液 - 日益和股份有限公司
以正型光阻(Positive tone) 為例,曝光區域是可以被顯影掉,非曝光區域則是做為Hard mask用。 根據光阻的不同,需要不同的光源(Light source), 曝光能量(Exposure dose)。
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#19半導體解密:ASML光刻機憑什麼能一廠獨大?台積電總能買到 ...
光刻機(英文「Mask Aligner」) ,是製造微機電、光電、二極體大規模積體 ... 圓表面,再經過分步重複曝光和顯影處理之後,在晶圓上形成需要的圖形。
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#20光阻 - 漢語網
【光阻】的英文單字、英文翻譯及用法:light resistance光電阻; 耐曬性;。漢英詞典提供【光阻】的詳盡英文翻譯、用法、例句等.
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#21韓商海力士半導體股份有限公司
住居所或營業所地址:(中文/英文). 大韓民國京畿道利川市夫鉢邑牙美 ... 在製造半導體裝置期間,該光阻聚合物去 ... 的TMAH顯影溶劑將該曝光之光阻膜顯影長達60秒鐘,以便.
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#22光阻- 電力工程- 英文翻譯 - 三度漢語網
中文詞彙 英文翻譯 出處/學術領域 無機光阻 inorganic resist 【電子工程】 雙層光阻製程 double resist process 【電子工程】 抗光蝕劑去除;光阻劑去除 Removal of photoresist 【電子工程】
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#23「光阻液英文」+1
「光阻液英文」+1。蝕刻與光.阻剝除.4.光罩/倍縮光罩.(Mask).曝光.Exposure.顯影.Development.紫外光.負光阻.基片.正光阻.基片.光阻.微影製程(Lithography).
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#25林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來
波長越短,越強解析度的影像就越能從鏡頭轉接到晶圓的光阻上,刻出的電路就越精密,製造出的晶片上就有更多的電路。但當時世界半導體大廠都認為乾式微影才是正道,加上已 ...
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#26全方位微影技術介紹 - ASML
你不可不知的科技公司. ASML為引領全球半導體產業創新的領導者,為全球晶片製造商提供全方位的微影系統、軟體與服務,來進行晶片量產.
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#27113_092-020DP-TW - 校友聯絡中心
一、發明名稱:(中文/英文) ... 六、英文發明摘要: ... 而傳統光阻劑微影製程中顯影時,去除光阻劑過程時需要從阻劑表面高度以顯影液洗刷直到基材(如 ...
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#28極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...
什麼是極紫外光(EUV)微影技術?關心台積電為何能連續多年業績創高,此關鍵技術絕對不能忽視,半導體設備巨頭ASML用視覺影像讓你知道EUV怎麼運作的。
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#29錦碁科技有限公司: 新竹自動化、半導體程式開發改造、PC ...
如同錦碁科技的英文名稱"Reliable-Mate Technology"是顧客值得信賴的好夥伴。 願景. 初期目標:為目前設備待改善的客戶提供客製化的 ...
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#30半導體微影製程疊對控制之研究The Study of ... - CHUR
2.曝光(exposure):用曝光機或步進機將光罩上的線路圖曝照在光阻上。 3.顯影(developing):用顯影液(developer)將已曝光的光阻顯影成像。 除了此三大步驟 ...
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#31半导体黄光制程_百度文库
¾塗底(Primming) : 塗上一層用來增加光阻與晶片表面附著能力的化合物,英文全名為“ Hexamethyldisilazane”, 通常簡稱為HMDS。 1 ¾軟烤(Soft Bake) : 或稱為曝光前烘烤( ...
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#32精密化學品 - 三福化工
利用鹼性顯影液將光阻(PR, Photo Resist)經曝光後形成的有機酸中和、剝落,留下未反應的光阻圖案。 TMAH (氫氧化四甲基銨) · NaOH (氫氧化鈉) · KOH (氫氧化鉀) ...
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#33半導體材料(後段) - 台灣東應化股份有限公司
在捲帶式自動接合(TAB)、薄膜覆晶(COF)與軟性印刷電路板(FPC)中,這些光阻具備支援聚酰亞胺膜軟性基板捲動式製程的鍍膜效果與彈性。此外,我們還供應高解析度、高黏性正型 ...
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#34微影製程 - 國立高雄科技大學第一校區
微機電系統導論─微影製程3. NKFUST. MEMS Lab. 5. 無塵室的典型配置. ▫ 北區微機電中心平面圖. ▫ 黃光區class 1000. >光阻塗佈、光罩對準. 曝光、顯影.
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#35光阻去除與晶圓清洗產品 - Lam Research
Lam's photoresist strip and wafer cleaning products provide efficient and effective removal of photoresist, residues, and particles without impacting device ...
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#36蝕刻
一般而言,部分晶圓會在蝕刻時受到抗蝕刻「光罩」材料(如光阻劑) 或硬質光罩(如氮化矽) 所保護。 蝕刻製程是指介電質蝕刻或導體蝕刻,用以指明從晶圓上移除的薄膜材料類型 ...
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#37簡單的光學突破3C 科技瓶頸:浸潤式微影
例如晶片上的高. 分子聚合物(光阻)中含有光酸物質,與光反. 應後的生成物會部分溶在水裡造成汙染。透. 過機台的設計,水可以一定的流動速度循環,. 使汙染物不會一直存在 ...
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#38關於黃光及其100個疑問,這篇文章已全面解答 - 每日頭條
答:曝光是將塗布在Wafer表面的光阻感光的過程,同時將光罩上的圖形傳遞到Wafer上的過程。 12、何謂PEB(Post Exposure Bake)? 答:PEB是在曝光結束後對 ...
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#39積體電路製作流程
流程概述. IC設計. ‧ 系統設計. ‧ 邏輯設計. ‧ 實體設計. 光罩製作. ‧ 金屬濺鍍. ‧ 光阻塗佈. ‧ 電子束刻寫. ‧ 化學顯影. ‧ 蝕刻技術. ‧ 光阻去除.
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#41營收短少5.5 億美元!台積電爆出「晶圓瑕疵」 - 經理人
「化學原料供應商的一批光阻原料中某特定成分因被處理的方式與過去有異,導致光阻液中產生異質的聚合物。而此異質聚合物對晶圓14B 廠生產的12/16 奈米晶圓 ...
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#42繁體中文版 - 電子學位論文服務
論文名稱(中文), 半導體黃光製程覆蓋誤差改善. 論文名稱(英文), Overlay Error Improve of Semiconductor Photolithography Process. 第三語言論文名稱.
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#43顯影液
顯影 液. DEVELOPER. 顯影液(Developer)為TMAH 25%以超純水稀釋成2.38%所製成,長春此產品為TOK委託代工,顯影 ... 正型光阻之顯影劑,於半導體黃光製程中顯影使用。
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#44黃光製程英文的評價費用和推薦,EDU.TW、DCARD、PTT.CC
請問晶圓製程(薄膜、黃光、蝕刻、擴散)的觀念~tks 薄膜:沉積長FILM 黃光:上光阻→對準→顯影(去除光阻) 蝕刻:把圖形定義出來擴散:?????主要是做什麼呢? 謝謝你. 詳情» ...
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#45光阻劑英文,光阻劑的英語翻譯 | 健康跟著走
光阻劑英文翻譯:duv…,點擊查查權威綫上辭典詳細解釋光阻劑英文怎麽說,怎麽用英語翻譯光阻劑,光阻劑的英語例句用法和解釋。 正光阻. 基片. 光阻. 微影製程(Lithography) ...
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#46成果報告資料顯示 - 工程科技推展中心
中文計劃名稱, 針對奈米製程微顯影之製程視窗分析系統研究. 執行期限, 2010-08-01~2011-07-31. 主持人, 唐經洲. 職稱, 教授. 預算, 635000. 中文摘要, 隨著半導體工業 ...
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#47了解去光阻及蝕刻(striping&etching) - 品化科技股份有限公司
因為光阻材料為耐酸不耐鹼的物質,所以製作電路板時,常用氫氧化鈉之類的強鹼溶液剝除電鍍光阻材料,效果也非常好。因此直覺上認為剝除光阻是一件很簡單的 ...
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#48光阻液- 半導體材料- 華立企業股份有限公司 - wahlee.com
... IC製程用化學品與特殊氣體 · 半導體平整研磨液 · 石英,矽環及精細陶瓷組件 · 矽晶圓Silicon wafer. / 半導體材料 / 光阻液及顯影液 / 光阻液 ...
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#49半导体术语中英文对照表,芯片人必备!
半导体 产业作为一个起源于国外的技术,很多相关的技术术语都是用英文表述。且由于很多从业者都有海外经历,或者他们习惯于用英文表述相关的工艺和技术节点,那就导致 ...
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#50厚膜光阻塗佈機(Thick PR Spinner) - 陽明交通大學奈米中心
儀器中文:厚膜光阻塗佈機. 儀器英文:Spin coater for thick photoresist. 儀器所屬教授:徐文祥教授. 實驗室連絡電話: 55149 ...
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#51光刻工藝 - 中文百科知識
光刻(英語:photolithography)工藝是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光 ... 這層光阻劑在曝光(一般是紫外線)後可以被特定溶液(顯影液)溶解。
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#52光罩:簡介,結構,光刻,積體電路 - 中文百科全書
光罩(英文:Reticle, Mask),在製作IC的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成 ... 被曝光的區域會被顯影出來,在金屬鉻上形成電路圖形,成為類似曝光後的底片的光 ...
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#53電子廠常用的英文單字... - 平淡生活日記
在未經過任何半導體製程的情況下, 晶圓片表面看起來就光亮的像一面鏡子。 Photolithography&patterning【光蝕刻微影技術與成形】: 光微 ...
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#55曝光機英文 - Smuzp
艾司摩爾公司(ASML Holding N.V.)是在荷蘭費爾德霍芬的半導體裝置製造商。 ... 顯影劑英文翻譯:[ xiǎnyǐngjì ] contrast medium,點擊查查權威綫上辭典詳細解釋顯影 ...
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#56衝破晶圓製造瓶頸的一滴水 - 龍騰文化
要從一代微影技術升級到新一代,必須採用全新的雷射、光罩(鏤空板,可讓雷射在晶圓上投射出電路樣式)、可縮小影像與曝光位置的透鏡,還有光阻劑。但是在157奈米之下, ...
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#57SPR系列| 半导体制造相关设备| Products | TAZMO CO.,LTD.
我们正在为显影制程准备一个高速显影单元。 ###高速处理厚膜抗蚀剂的长时间显影。(常规比为1/2~1/3).
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#58半導體製程(二) | 晶圓加工| 蔥寶說說讓台積電叱吒風雲的功夫
這故事的主角是世界最大晶圓代工廠──台積電(英文縮寫為TSMC,暱稱叫GG), ... 用顯影劑浸泡或沖洗晶圓,在上個步驟被光照到的光阻會被顯影劑溶解,於是光罩上的圖案 ...
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#59浸潤式微影壽命延長EUV恐無出頭天? | SEMI
深紫外光(EUV)微影技術還在開發階段,許多半導體大廠也表達了一旦該技術開發完成就會採用的意願;但其他業者現在預期,浸潤式微影技術、多重圖形以及高折射率液體,將讓193 ...
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#60彩色光阻的機制| FPD用彩色濾光片色材| 東洋翊絢株式會
基本上彩色光阻(Color Resist)是指將使用在彩色濾光片等的顏料作為基底的油墨。「Resist」在英文中的意思是「抵抗」,後來在工業用途上主要指稱運用於產品上的「保護膜」 ...
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#61化工小兵攻半導體商機| 上市公司| 股市 - 聯合報
三福化供應顯影液、蝕刻液、剝離液、清洗液等電子化工原料,過去最大客戶為面板、太陽能和LED,但兩年前三福化董事長巫信弘喊出「台灣電子化工業的未來在 ...
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#62顯影、蝕刻、剝膜、重工製程 - Manz AG
我們的蝕刻製程適用於多種基材,例如矽晶圓(太陽能電池與半導體)、玻璃或印刷電路板。 針對光阻剝膜,我們提供經常用於PCB 生產的苛性鹼製程(如NaOH、KOH);此外,我們也 ...
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#63何謂光阻劑
那裡可以找到資料啊! 找找,Introduction to Mircolithography Semiconductor Lithography. 光阻劑的英文是resist . 資料比較多的期刊J. Vac. Sci.
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#64「半導體曝光英文」懶人包資訊整理 (1) | 蘋果健康咬一口
半導體 曝光英文資訊懶人包(1),半導體曝光英文.Lithography.曝光.Exposure.顯影.Development.紫外光.負光阻.基片.正光阻.基片 ...,2018年10月15日—半導體產業作為一個 ...
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#65行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 - ntust
(1)先將顯微鏡微影系統與半導體製程中I-line UV(365 nm)光源曝光整合,並設計其光學 ... 駐波現象及光繞射現象而過度被顯影,影響光阻的定義區域,造成pattern 定義時 ...
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#66強化台灣IC在地供應鏈!永光化學獨創光阻劑配方
在台積電2019年報列出的光阻劑供應商們,有3家已經或正計畫投入最高階EUV光阻劑供應,皆為日本業者,包括領導品牌東京應化工業、信越化學(打算來台生產) ...
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#67收藏,半導體一些術語的中英文對照,趕緊Get起來! - 壹讀
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#68晶圓級封裝凸塊介電層製程技術之改進 - 高雄應用科技大學
1 日月光半導體製造股份有限公司 ... 製程包含從PI 塗佈(PI Coating)、曝光(Exposure)、顯影(Developer)、固化(Curing)、電漿餘膜處.
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#69永光化學光阻系列滿足半導體新應用 - 奇摩新聞
... 不僅完整佈局半導體製程G&I-Line光阻產品版圖;推出SiC專用研磨液. ... 阻劑、顯影液、研磨液、特殊油墨等一應俱全,以滿足半導體新世代產品應用。
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#70PCB產業應用及製造流程
印刷電路板,又稱為印製電路板,印刷線路板,常使用英文縮寫是PCB(Printed ... 蝕刻阻劑(濕膜或乾膜),經過曝光顯影後再以蝕刻去掉不需要的銅箔,而做出電路板。
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#71Topgiga Technology
致力於研發、生產LCD光電產業及半導體製程所使用之光阻。 ... 「成為全世界最好的光電、半導體光阻相關的材料供應商,為我們的客戶創造最大價值並且共 ...
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#72芯源微:涂胶显影设备唯一厂商,中芯 - 雪球
... 光刻胶涂覆,英文简称SprayCoater)和显影机(英文简称Developer)。在早期的集成电路和较低端的半导体制造工艺中,此类设备往往单独使用(Off Line)。
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#73半導體黃光製程有害物暴露及異味調查研究Exposure ...
光阻稀釋劑(EBR),主要成分為單甲基醚丙二醇醋酸酯(PGMEA)與單甲基醚丙. 二醇(PGME);光阻液所含有主要溶劑成分為乳酸乙酯(Ethyl lactate)、乙酸丁酯. (Butyl acetate)與二 ...
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台灣迪恩士半導體科技(股)公司(SCREEN SPE Taiwan Co., Ltd.)為日本SCREEN ... 台灣迪恩士半導體科技提供各領域之半導體晶圓設備,包含洗淨、蝕刻、顯影/塗佈等製程 ...
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當它進入眼. 睛,請用大量的水沖洗並尋求醫療救助。 (2) 壓膜時建議使用排氣裝置及室內通風系統,以避免吸入層壓未曝光的光阻膜時 ...
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N,N-二甲基乙醯胺的CAS號為127-19-5,也可用化學式表示為C 4H 9NO,CH 3C(=O)N(CH 3) 2,或用英文簡稱為DMAc。 在本發明的光阻剝除劑中 ...
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光罩(英文:Reticle, Mask):在製作IC的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型 ... 被曝光的區域會被顯影出來,在金屬鉻上形成電路圖形,成為類似曝光後的底片的光 ...
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中文名稱, 英文名稱, 單位, 說明. 光束(光通量) ... 微影製程是在晶片上塗上一層薄薄的光阻劑,而後用360nm的紫外線將線路圖顯影在晶片上。由於光阻劑的光敏感範圍的 ...
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