你即將離開本站

並前往http://homepage.ntu.edu.tw/~nlw001/handouts/semiconductor/Ch13_Integration.pdf

Ch13 Process Integration

淺溝槽絕緣 (STI). ▫ LOCOS 和PBL 運作地很好當圖形尺寸> 0.5 ... STI製程和CVD氧化物溝槽之填充被接著發展 ... STI: 氮化矽、氧化矽及矽之蝕刻，光阻剝除. P型磊晶層.

確定！ 回上一頁

查詢 「sti淺溝槽絕緣」的人也找了：

  1. 淺溝槽隔離shallow trench isolation sti技術與製作流程
    2.
  2. locos鳥嘴效應
    3.
  3. 淺溝槽隔離
    4.
  4. 淺溝槽隔離sti
    5.
  5. iso dense半導體
    6.
  6. 爐管製程
    7.
  7. 熱氧化製程
    8.
  8. Hump effect
    9.