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淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰

渠隔離技術(Shallow Trench Isolation,. STI)比起先前區域性矽表面氧化隔離技. 術(LOCal Oxidation of Silicon, LOCOS). 擁有多項的製程及電性隔離優點，促.

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