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淺槽隔離 - 中文百科知識

淺槽隔離，即shallow trench isolation，簡稱STI。通常用於0.25um以下工藝，通過利用氮化矽掩膜經過澱積、圖形化、刻蝕矽後形成槽，並在槽中填充澱積氧化物， ...

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