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半导体设备的制造方法以及半导体衬底的氧化方法 - Google
当制造了这样的半导体设备时,通过在除去槽附近的硅衬底中剩余的绝缘膜之前将绝缘体填充入在硅衬底中形成的槽中,而形成STI区域,并且栅氧化膜和栅极形成在槽附近的 ...
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