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半導體製程設備技術 - 第 73 頁 - Google 圖書結果

在低能量離子植入製程以形成淺接面區時,把晶圓傾斜則會因為光阻的作用而發生陰影 ... 薄膜在離子植入步驟完成後會被移除,故有人稱之為犧牲氧化層(Sacrificial Oxide)。

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