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快速热退火在硅中引入的缺陷的研究

近几年来,快速热退火RTA (Rapid Thermal Annealing)得到了广泛的研究“-”。 由于它能在极短的时间内(<60秒)电激活注入的掺杂离子,恢复晶格损伤从而避免 ...

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