你即將離開本站

並前往https://ndltd.ncl.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi/login?o=dnclcdr&s=id=%22107NPUS5159005%22.&searchmode=basic

退火製程對於二氧化鈦薄膜光催化降解亞甲藍之研究

結果顯示未退火薄膜隨著薄膜厚度增加降解效率越好，在150 nm時因有最大RMS 2.579 nm， ... 三種厚度50、100、150 nm經過RTA退火，均顯示在100 nm下有最佳的降解效率， ...

確定！ 回上一頁

查詢 「rta退火」的人也找了：

  1. 快速退火優缺點
    2.
  2. 半導體退火原理
    3.
  3. 快速熱退火原理
    4.
  4. rtp退火
    5.
  5. rta原理
    6.
  6. rta半導體
    7.
  7. Rapid thermal annealing
    8.
  8. 完全退火
    9.