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ALD,原子層沉積技術及應用 - 大永真空設備

其中，自我侷限的意思為：一次的ALD cycle，只在基板(Substrate)表面成長單一原子 ... 腔體進行化學反應，整個化學反應(Overall reactions)的表示如下：2Al(CH3)3(g) + ...

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