上一篇文章主要介紹瞭薄膜沉積工藝的原理、常用的技術以及物理氣相沉積PVD的設備 ... 采用HDP-CVD工藝制備的二氧化矽薄膜比較致密,廣泛用於CMOS電路130-45nm技術節點 ...
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