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32-nm half-pitch node - 政府研究資訊系統GRB

目前半間距（half-pitch) 65奈米製程所使用波長193奈米的深紫外光（DUV)光學微影技術預期將繼續被用於半間距小於45奈米的製程。在微影設備及製程變異的實際限制下， ...

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