追溯至製程發現半導體廠的濕式製程中使用過氧化氫(H2O2) 搭配無機酸鹼用來清洗晶圓, ... 的有機物質亦具降解成效,設備屬Pilot規模目前接受委託在半導體廠測試IPA廢水 ...
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