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193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片？ - 電子技術設計

類別: IC/電路板/系統設計應用; 2018-04-26; (0) 評論 ... 光刻膠曝光後的溶解性依賴於曝光量，這大家都知道，但是這個依賴很不線性。透過控制這種不線性，使得在某個 ...

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