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美國KLA獨霸半導體檢測設備市場，國產替代的最大阻力如何搬？

下圖所示為SEM 成像原理圖，圖左側是待測量圖形的剖面圖，由於在斜坡處入射電子 ... 光學關鍵尺寸（OCD）測量設備：由於CD-SEM 需要將待測晶圓臵於真空，因此檢測速度 ...

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