你即將離開本站

並前往https://books.google.com.tw/books?id=SDJsDwAAQBAJ&pg=PA166&lpg=PA166&dq=mbe%E8%A3%BD%E7%A8%8B&source=bl&ots=-0MPT9yXc3&sig=ACfU3U2IhVOZXJAcx6HB1FRv4toa9kNSIQ&hl=zh-TW&sa=X&ved=2ahUKEwiCzvnHqPD_AhWVlGoFHT7ZDzYQ6AF6BQiKAhAD

半導體製程設備技術 - 第 166 頁 - Google 圖書結果

圖3.35 反射式高能電子繞射儀對MBE磊晶成長表面的監測圖形 MBE製程壓力:在超高真空(內壓<10-10 torr)腔體環境內加蒸鍍源(控溫需精準掌握與計算)蒸鍍其分子或原子, ...

確定！ 回上一頁

查詢 「mbe製程」的人也找了：

  1. mbe原理
    2.
  2. 分子束磊晶原理
    3.
  3. mbe設備
    4.
  4. mbe mocvd比較
    5.
  5. Molecular beam epitaxy
    6.
  6. 分子束磊晶缺點
    7.
  7. mbe分子束
    8.
  8. mbe機台
    9.