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濺製程需使用之各種型式靶材及基板 - 台灣格雷蒙

用於分子束磊晶(MBE)實驗之各種2、3、5、6族化合物單晶片及高純度金屬原料。 6. 氧化鋁、氧化鋯、氮化矽管、棒、片材等用於實驗之各種高溫絕緣材料。

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