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分子束磊晶儀於1968年研發成功，至今已成為薄膜製程技術當中重要的一項發展。此技術是以真空蒸鍍的方式進行磊晶，在超高真空的環境下(< 10^-9 torr)，蒸鍍所需成長的 ...

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