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形態、微觀結構和摻雜行為:不同沉積方法對poly-Si/SiOx鈍化接觸的比較

從廣義上講，多矽薄膜的製備可分為兩種主要方法——化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。常用的CVD工藝 ... 首先，我們比較了濺射、PECVD和LPCVD三種方法的沉積速率。

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