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KLA突破電子束晶圓缺陷檢測瓶頸,將助EUV光刻機一臂之力
電子束的原理,是利用電子束掃描待測元件,得到二次電子成像的影像,通過對二次電子的收集,以呈現的圖像來解析晶圓在製程中的異常處。電子束檢測的優勢, ...
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