[爆卦]kla意思是什麼?優點缺點精華區懶人包

為什麼這篇kla意思鄉民發文收入到精華區:因為在kla意思這個討論話題中,有許多相關的文章在討論,這篇最有參考價值!作者joe44512 (huangY)看板Tech_Job標題[新聞] KLA推電子束圖案化晶圓缺陷...



看準台積電大幅採用 EUV,科磊推電子束圖案化晶圓缺陷檢測

https://technews.tw/2020/07/21/kla-esl10/

就在晶圓代工龍頭台積電已經進入 5 奈米製程量產,並且大量採用極紫外光刻設備(EUV
)的情況下,美商半導體設備商科磊(KLA)於 21 日宣布,推出革命性的 eSL10 電子束
圖案化晶圓缺陷檢測系統。透過該項新的檢測系統,可以發現相關光學或其他電子束缺陷
檢測系統無法穩定偵測的缺陷,藉此以加快高性能邏輯和記憶體晶片,其中包括那些依賴
於極紫外光刻(EUV) 技術的晶片的上市時間。

科磊指出,過去的電子束檢測系統僅能提供使用者選擇偵測供靈敏度或速度,這嚴重限制
了其實際應用。而 eSL10 採用全新設計,採用了多年研發的多項突破性技術,可提供高
解析和高速的缺陷檢測,其性能是市場中任何其他電子束系統都無法比擬的。如此,可以
解決現有檢測儀無法解決的問題,這也使得科磊的新型電子束檢測儀成為尖端半導體零件
製造生產中至關重要的設備之一。

科磊進一步解釋,eSL10 電子束檢測系統採用多項革命性技術,使其有能力填補目前關鍵
缺陷檢測的空白。例如,獨特的電子光學設計可提供業內最廣泛的操作範圍,可捕獲各種
設備製程中的缺陷。還有,Yellowstone 掃描模式,在每次掃描中收集 100 億畫素的資
料並支持高速運算同時又不會影響解析度,這樣可以在廣闊的區域內有效地計算偵測可疑
熱點或發現缺陷。

另外,Simul-6 感測器技術通過一次掃描即可收集表面、形貌、材料對比度和溝槽深度等
資訊,減少了在具有挑戰性的結構和材料中識別不同缺陷類型所需的時間。而憑藉其搭配
的先進人工智慧(AI)系統,eSL10 能採用深度學習演算法,針對 IC 製造商不斷發展的
檢測要求進行調整,並將產品性能最關鍵的缺陷分離出來。

至於,在當前的 3D 產品架構中,包括用於記憶體的 3D NAND 和 DRAM,以及用於邏輯的
finFET 和閘極全環 (GAA) 晶體管,都使得晶圓廠需要重新考慮傳統的缺陷控制策略
。而 eSL10 與科磊的 39xx(Gen5)和 29xx(Gen4)頻寬光學晶片缺陷檢測系統相結合
,為先進 IC 技術提供了缺陷檢測和監控解決方案。藉由這些系統組合,使用者將可以提
高良率和可靠性、更快發現關鍵缺陷,並能夠更快地解決從研發到生產的缺陷問題。

另外,科磊還強調,eSL10 架構內置可擴充性,可以在整個電子束檢測和量測領域內延伸
其應用。而目前全球已有邏輯、記憶體和代工製造商採用 eSL10 系統,並用於協助開發
、提升和監測新一代製程和產品製造。

果然!量測還是KLA獨大!


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ian41360: 用SEM掃的意思?終於來了…07/22 10:23
leehao: 速度不知道如何?還有不會傷晶圓嗎?HMI表示...? 07/22 10:26
※ 編輯: joe44512 (49.216.128.9 臺灣), 07/22/2020 10:53:13
douge: "美商" 華為哭哭 07/22 11:15
aceradsl: ASML HMI 加油! 07/22 11:27
poba8506: 光學檢測好好做就好了,之前的es32怎樣業界都知道啊 07/22 11:30
lnew1001: 這個不知道要不要鍍金之類 07/22 12:14
yusuekei: 這是single大於multi beam的意思嗎 07/22 12:22
blueskydgdg: 鍍金的話還要不要賺錢啊,產品鍍金都毀了 07/22 14:20
MyFairyTal: 不就是e-beam? 07/22 16:05
a810086: 漢微科早就ㄨㄢㄍㄨㄛㄌ 07/22 18:46
a810086: 玩過了 07/22 18:46
cwdm: es32都幾年來了…… 07/22 23:29
joe44512: 就算玩過了市佔率還是遠不如KLA 07/23 00:49
clouder0628: 原po應該不熟這領域吧,光學KLA的確獨大,但EBI這塊 07/23 03:23
clouder0628: 沒有明顯被誰獨佔,更何況A退出EBI這塊也有一段時間 07/23 03:23
clouder0628: 了,即使他們EBR一直都有在發展,但也沒有很好的市佔 07/23 03:23
clouder0628: 率 07/23 03:23
mangobing: ctid=15042&msgnum=8054&batchsize=10&batchtype=Next 07/23 13:30
mangobing: E-beam除了ASML跟Applied Materials以外應該都聚在一旁 07/23 13:31
mangobing: 玩沙吧..... 07/23 13:31
KapaJan: 同意樓上 VC贏不了HMI; OVL被PRO-V拋得老遠... 07/27 23:51

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