你即將離開本站

並前往https://www.mse.nchu.edu.tw/uploads/bulletin_file/file/5f3615791d41c80133000036/2363_627c1fc0.pdf

電漿製程技術

Reactive ion etching (RIE) ... remove substrate material 這型reactor 通常就是RIE. ▫ For anisotropic etching, ... 由下圖可以看出M- 和D- 分布之差異.

確定！ 回上一頁

查詢 「icp rie差異」的人也找了：

  1. icp蝕刻原理
    2.
  2. ICP RIE
    3.
  3. rie蝕刻原理
    4.
  4. rie原理
    5.
  5. 乾蝕刻濕蝕刻比較
    6.
  6. 乾蝕刻原理
    7.
  7. RIE Etching
    8.
  8. RIE plasma
    9.