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IC 製造流程中晶片設計的後段環節"光罩" (Photomask)

IC 製造流程中晶片設計的後段環節"光罩" (Photomask) · IC 晶片內部分為數十層, 以各種顏色代表各層電路圖並對應一張光罩. · 光罩的設計和制造需要緊密銜接, ...

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