你即將離開本站

並前往https://www.siscmag.com/PDF/2019/0607/TECHNOLOGY2.pdf

芯片制程黄光室专用LED平板灯的应用 - 半导体芯科技

光刻制程是芯片制程的关键之. 重，它利用各种波长光线对光. 刻胶进行曝光，才能制作出纳. 米级的电子线路，包括436 纳米的. G-line、405 纳米的H-line、365 纳.

確定！ 回上一頁

查詢 「g line波長」的人也找了：

  1. Ghi line
    2.
  2. i-line曝光機
    3.
  3. I-line wavelength
    4.
  4. j line波長
    5.
  5. i-line光阻
    6.
  6. i-line stepper
    7.
  7. 曝光顯影製程
    8.
  8. lithography原理
    9.