你即將離開本站

並前往http://qccdata.qichacha.com/ReportData/PDF/3957ab252896c26f2afd018637089884.pdf

日本光刻胶供应不足，看好国产替代的先锋队

资料来源：亚化咨询，光大证券研究所整理. 表2：不同类型的光刻胶对应的制程工艺. 光刻胶VS 制程工艺. 光刻机曝光波长. G-line 436nm. I-line 365nm.

確定！ 回上一頁

查詢 「g line波長」的人也找了：

  1. Ghi line
    2.
  2. i-line曝光機
    3.
  3. I-line wavelength
    4.
  4. j line波長
    5.
  5. i-line光阻
    6.
  6. i-line stepper
    7.
  7. 曝光顯影製程
    8.
  8. lithography原理
    9.