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半導体製造装置用語集（リソグラフィ : Lithography）

ArFエキシマレーザー光、波長193 nmを露光光とする露光手法。 i線露光 (i-line Lithography) ... g線レジスト (g-line Resist). 波長435 nm のg線リソグラフィで用いる ...

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