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智芯研報| 從g-Line 到EUV，探究ASML如何造就市場護城河

第一代光刻機光源是g-Line，波長為436nm，可以滿足0.8-0.35 微米製程晶片的生產，對應設備有接觸式和接近式光刻機。第二代光刻機光源是i-Line，波長 ...

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