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針對7nm CMOS邏輯產品線上控制的光學量測策略- 電子技術設計

FoG 也秉承了「衡量重要指標」這一產業趨向，在圖案化結構上進行厚度測量，因而測量資料與實際元件性能更為相關。 兩個主要的製程創新開啟了10奈米(nm)及 ...

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