你即將離開本站

並前往https://www.semi.org/zh/node/zh-59506

超級光阻劑可望在10nm節點實現EUV微影 - SEMI.org

新型的光阻劑是專為需要兼具靈敏度與機械穩定度的EUV微影而設計，但研究人員們也希望新的光阻劑能改善線邊緣粗糙度，這一點在10nm及其以下先進製程變得越來越重要。 「高 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「euv光阻劑台灣」的人也找了：

  1. 台積電光阻劑供應商
    2.
  2. 光阻劑市佔率
    3.
  3. 台灣光阻劑廠商
    4.
  4. 光阻劑概念股
    5.
  5. 永光光阻劑
    6.
  6. 光阻劑大廠
    7.
  7. 光阻劑日本
    8.
  8. 日本光阻劑廠商
    9.