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蝕刻

... 也就是物理蝕刻）都是現今光罩製程常用的方式，當精細度要求較高時，較常選擇乾蝕刻的方式。 一般來說乾蝕刻依照產生電漿的模式分三種：(1) PE (Plasma Etching), ...

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