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半導體制造、Fab以及Silicon Processing的基本知識- 頁3

答：是在蝕刻室的清凈或更換零件後，為要穩定制程條件，使用仿真（dummy） 晶圓進行數次的蝕刻循環。 Asher的主要用途: 答：光阻去除. Wet bench dryer 功用為何? 答：將晶 ...

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