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ALD,原子層沉積技術及應用 - 大永真空設備

... 化學氣相沉積技術(CVD)，與傳統CVD的差異在於：ALD是將一個傳統CVD的反應過程， ... 殘留物的移除速率等因素而決定；若是在低溫下的製程，吹除時間甚至需要3分鐘。

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