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電機與電子工程系碩士班碩士論文爐管氮化矽均勻度改善之研究 ...

需的溫度，以達到調降製程熱能消耗的目的，PECVD 在CVD 製程裡所. 佔的份量，已逐漸成為主要的薄膜沈積工具之一，特別是用於IC 晶圓.

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