CMP是 將晶圓放置在承載體(Carrier/Head)與表面鋪有拋光墊的旋轉工作台之間,延著一條輸送管,將會產生化學反應的化學助劑(reagent)不斷地噴出,在化學蝕刻與機械磨削兩 ...
確定! 回上一頁