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選擇適當表面分析儀器抓出製程汙染缺陷 - Digitimes

宜特發現，在尋找製程汙染缺陷上，建議選擇原子力顯微鏡(AFM)，其原理是 ... 半定量分析；當汙染物小於10um時，建議選擇歐傑電子能譜儀(AES)來進行。

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