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LOD效应和STI效应有什么区别- Layout讨论区 - EETOP

LOD( Length of Diffusion): 從025um以下的製程，元件之間是利用較先進的STI(Shallow Trench Isolation)的方法來做隔絕。 STI的作法，會在substrate上挖出一個溝槽，再 ...

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