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化學氣相沉積與介電質薄膜

CVD 和SOG 加上CVD 介電質. • 淺溝槽絕緣(STI). • 淺溝槽絕緣(STI). • 側壁空間層作為自我對準式金屬矽化合. 物，LDD，和源極/汲極擴散緩衝層. • 鈍化保護介電質層(PD).

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